ezagutzak

ASTM B708 ​​tantalioa helburu biribila % 99.95 purua

2024-01-05 18:00:06

1 Tantalozko plaka/orria

2 Garbitasuna: Ta≥99.95%

3 Dentsitatea: 16.65g/cm3

4 Urtze-puntua: 3017 ℃

5 Araua: ASTM B708

6 Grade: RO5200,Ta1, RO5252(Ta-2.5W),RO5255(Ta-10W)

7 Propietate fisikoak eta kimikoak

produktuaren izena

Tantalozko xafla

Materialen konposizioa

RO5200,Ta1,

Purity

99.95%

Standard:

ASTM B708-98

Analisi kuantitatiboa

Element

O

Si

H

C

Cr

Cu

Fe

Mg

Mn

Mo

Kontzentrazioa (≤PPM

100

25

10

30

7

6






astm_b708_tantalum_sputtering_target_99_95.jpg


GUSTATZEN ZAIZZU

Niobio sputtering helburua

Niobio sputtering helburua

Gehiago ikusi
WZr elektrodoak

WZr elektrodoak

Gehiago ikusi
wolframiozko alanbre mehea

wolframiozko alanbre mehea

Gehiago ikusi
Tungsteno arragoa

Tungsteno arragoa

Gehiago ikusi
Joturarik gabeko nikel-aleazio hodia

Joturarik gabeko nikel-aleazio hodia

Gehiago ikusi